眾所周知，芯片技術(shù)，光刻機(jī)一直是我們的短板，被西方卡脖子，這兩年國(guó)家在芯片上的投入巨大，也取得了很好的成績(jī)，伴隨著百年大慶，實(shí)現(xiàn)了民族自豪感。

　　芯片自產(chǎn)自足一直是我國(guó)在芯片上的重要目標(biāo)，本來國(guó)家在這一目標(biāo)的計(jì)劃是于2025年初步完成。但是這兩年我國(guó)芯片領(lǐng)域從原料到設(shè)備再到生產(chǎn)都受到了老美的封鎖限制，整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)艿饺矫娴拇驌簦苍斐闪藝?guó)內(nèi)芯片技術(shù)突破困難，產(chǎn)能難以增加的情況。在這樣的局面下，很多人對(duì)于芯片在2025年完成自產(chǎn)自足已經(jīng)不抱什么期待，更多人認(rèn)為這一時(shí)限需要再往后推遲數(shù)年。

　　隨著老美進(jìn)一步制裁，目前高端的光刻機(jī)已經(jīng)被禁止向國(guó)內(nèi)出售。臺(tái)積電打算在南京建廠也因?yàn)槟貌坏浇夥饬?，不能將設(shè)備搬遷至國(guó)內(nèi)。眼下來看，沒有高端光刻機(jī)進(jìn)入國(guó)內(nèi)，芯片生產(chǎn)的困境還是很嚴(yán)重。

　　搞定13.5nm光源!DUV光刻機(jī)、14nm芯片量產(chǎn)都在路上了。最近我國(guó)內(nèi)突破了一項(xiàng)技術(shù)，可能會(huì)給半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來的新的轉(zhuǎn)機(jī)，可以解決目前的主要困難。這項(xiàng)技術(shù)就是光刻機(jī)使用的光源，在芯片的制作過程中，需要在芯片上不斷雕刻，而雕刻的“筆”就是光源。

　　光源在芯片的生產(chǎn)中有著舉足輕重的位置，沒有光源就無(wú)法生產(chǎn)芯片，同時(shí)，光源也影響到芯片的工藝水平?，F(xiàn)代光刻機(jī)使用的光源已經(jīng)經(jīng)過了許多次的更新?lián)Q代，從近紫外光到深紫外光再到極紫外光，對(duì)應(yīng)著一開始的初代二代光刻機(jī)，到現(xiàn)在的DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)，技術(shù)一直在進(jìn)步之中。這些光源的更新有一個(gè)重要的特性就是波長(zhǎng)不斷變短，波長(zhǎng)越短，芯片制程水平越高，目前最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)可以實(shí)現(xiàn)12nm-5nm的芯片制造。而目前世界上使用的最先進(jìn)的芯片包括蘋果的A14仿生芯片和華為的麒麟9000等都是使用的5nm芯片制程工藝。雖然說三星已經(jīng)制造出了3nm制程工藝的芯片，但能否應(yīng)用還是一個(gè)未知數(shù)。

　　根據(jù)國(guó)內(nèi)知情人員報(bào)道，我國(guó)現(xiàn)在已經(jīng)解決了13.5nm的光源，也就意味著在生產(chǎn)14nm芯片這個(gè)關(guān)鍵工藝上，我國(guó)已經(jīng)解決了光源這個(gè)核心難題。而最近，國(guó)內(nèi)科研大牛也表示，在明年年底國(guó)內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)14nm芯片的規(guī)模生產(chǎn)。這可能意味著我國(guó)不僅掌握了13.5nm光源技術(shù)，也掌握了DUV光刻機(jī)其他各種技術(shù)，能夠在明年就實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)的生產(chǎn)。如果在明年年底實(shí)現(xiàn)14nm芯片的規(guī)模化生產(chǎn)，對(duì)于我國(guó)的芯片困境肯定很有大的幫助。

　　應(yīng)該了解的是，這一次14nm芯片的規(guī)模量產(chǎn)不是簡(jiǎn)單地使用已有的光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)，而是使用國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)?，F(xiàn)在我國(guó)不是沒有生產(chǎn)14nm芯片的技術(shù)，根據(jù)中芯國(guó)際的消息，我國(guó)能風(fēng)險(xiǎn)量產(chǎn)7nm芯片，但是有能力不代表著可以實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，因?yàn)槲覀儧]有自己的光刻機(jī)。而這一次，國(guó)內(nèi)知名大牛所透露的消息卻是不一樣，這說明我國(guó)在明年會(huì)掌握一條自主的14nm芯片產(chǎn)業(yè)鏈。所以這不僅意味著對(duì)我國(guó)芯片困境有很大助力，也代表這條芯片產(chǎn)業(yè)鏈難以被老美制裁針對(duì)。

　　好消息!光源獲得突破，國(guó)產(chǎn)14nm芯片明年底將量產(chǎn)。不過我國(guó)雖然即將解決14nm的問題，但是距離頂尖芯片技術(shù)還差得很遠(yuǎn)，前面也說了頂尖的EUV光刻機(jī)可以生產(chǎn)5nm芯片，而IPhone12的發(fā)布也意味目前芯片制造商們已經(jīng)開始量產(chǎn)5nm芯片。從14nm到5nm，中間至少隔了7nm的技術(shù)門檻，所以我國(guó)和世界上頂尖的芯片制程工藝還差很多。我國(guó)想要短期內(nèi)實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，建設(shè)更先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)業(yè)鏈，卻是不太可能。因?yàn)镋UV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)之間的差距不是一點(diǎn)半點(diǎn)，我國(guó)才剛剛能夠生產(chǎn)DUV光刻機(jī)，沒有個(gè)幾年根本沒可能突破EUV光刻機(jī)，而且就算有幾年的時(shí)間，也不一定能夠顧生產(chǎn)出來EUV光刻機(jī)。

　　不過我們也不用如此悲觀，畢竟EUV光刻機(jī)現(xiàn)在的使用并不普遍，市場(chǎng)上所使用的芯片也大部分都?xì)w屬28nm以下的工藝，目前國(guó)內(nèi)14及其以下芯片占據(jù)了市場(chǎng)百分之八十以上，而7nm，5nm芯片這樣的技術(shù)，還需要很多年才能成為市場(chǎng)主流，擁有更多的市場(chǎng)占有額。

　　所以我們只要能夠?qū)崿F(xiàn)14nm芯片的量產(chǎn)，便可以很快達(dá)到2025年自給自足的目標(biāo)，屆時(shí)我過也不用在老美的制裁之下如此地難受和擔(dān)驚受怕，也是能夠在國(guó)際芯片市場(chǎng)站穩(wěn)腳跟。以我國(guó)第一芯片消費(fèi)國(guó)的位置，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)能夠自給自足，就已經(jīng)能夠?yàn)閲?guó)內(nèi)的半導(dǎo)體行業(yè)帶來足夠的機(jī)遇和利潤(rùn)，有助于他們?cè)诎卜€(wěn)中逐漸突破芯片技術(shù)，最終實(shí)現(xiàn)追趕乃至反超的目標(biāo)。

    如果實(shí)現(xiàn)了這一目標(biāo)，不僅增強(qiáng)民族自豪感，有了自己的芯片，有了自己的光刻機(jī)，提高中國(guó)正能量。